日本处于EUV光刻芯片制造革命的边缘 (asiatimes.com)

日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）的研究人员设计了一种新型极紫外（EUV）光刻设备，可以显著降低生产7纳米及更小芯片的成本，从而彻底改变芯片制造供应链。这项新技术据称可以将EUV设备的功耗降低90%，并简化光学系统，这意味着更便宜的先进芯片制造机器。如果成功，这项技术可能会结束ASML在EUV光刻领域的垄断地位，这对半导体制造商、投资者和各国政府都将产生重大影响。