Graphen-Interconnects könnten das Mooresche Gesetz retten
2024-12-14
Das in Kalifornien ansässige Startup Destination 2D behauptet, zwei langjährige Herausforderungen bei der Integration von Graphen in die Chipherstellung gelöst zu haben: Hochtemperaturdeposition und niedrige Ladungsträgerdichte. Sie haben eine Technik entwickelt, um Graphen-Interconnects bei 300 °C abzuscheiden, was mit traditionellen CMOS-Verfahren kompatibel ist. Darüber hinaus haben sie durch Interkalationsdotierung Graphen-Stromdichten erreicht, die 100-mal so hoch sind wie bei Kupfer. Diese Technologie verspricht, das Mooresche Gesetz zu verlängern und zukünftige Generationen von Halbleitertechnologien zu unterstützen.