La lithographie par nanoimpression de Canon défie la domination de l'EUV

Canon a lancé une technologie de fabrication de puces appelée lithographie par nanoimpression (NIL), capable d'une précision de 14 nanomètres, remettant en question la lithographie ultraviolette extrême (EUV) actuellement monopolisée par ASML. La NIL offre des coûts plus bas, une consommation d'énergie réduite et un processus plus simple, transférant les motifs de circuits sur des plaquettes de silicium à l'aide d'une méthode de « tamponnage ». Malgré une période de développement de 20 ans, la NIL a surmonté des défis tels que le contrôle de la résine, l'élimination des bulles et la précision d'alignement, et le premier système commercial a été livré. À l'avenir, la NIL est prête à prendre pied dans la fabrication de puces mémoire et logiques, en particulier dans les applications exigeant rentabilité et efficacité.