Lithographie computationnelle accélérée par GPU : de plusieurs jours à moins d’une journée

La fabrication moderne de semi-conducteurs est confrontée à d’immenses défis informatiques, notamment en lithographie pour les puces submicroniques. Les techniques OPC traditionnelles sont limitées par la puissance de calcul, tandis que la technologie ILT, bien que plus flexible, exige des ressources massives, pouvant utiliser des milliers de cœurs de CPU pendant plusieurs jours. Pour y remédier, NVIDIA, TSMC et Synopsys ont collaboré pour migrer le code de lithographie des CPU vers les GPU, obtenant des accélérations significatives. En optimisant les algorithmes et en tirant parti du parallélisme des GPU, ils ont réduit le temps de calcul de l’ILT de plusieurs jours à moins d’une journée, soit un gain de vitesse supérieur à 15 fois. Cette avancée prometteuse devrait considérablement faire progresser l’industrie des semi-conducteurs.