La Litografía por Nanoimpresión de Canon Desafía el Dominio de la EUV
Canon ha lanzado una tecnología de fabricación de chips llamada litografía por nanoimpresión (NIL), capaz de una precisión de 14 nanómetros, desafiando la litografía ultravioleta extrema (EUV) actualmente monopolizada por ASML. La NIL ofrece costos más bajos, menor consumo de energía y un proceso más simple, transfiriendo patrones de circuito a obleas de silicio mediante un método de 'estampado'. A pesar de un período de desarrollo de 20 años, la NIL ha superado desafíos como el control de la resina, la eliminación de burbujas y la precisión de alineación, y se ha entregado el primer sistema comercial. En el futuro, la NIL está preparada para ganar terreno en la fabricación de chips de memoria y lógica, especialmente en aplicaciones que exigen rentabilidad y eficiencia.