캐논의 나노 임프린트 리소그래피, EUV의 지배에 도전하다
2025-01-05
캐논은 14나노미터의 정밀도를 달성하는 나노 임프린트 리소그래피(NIL)라는 칩 제조 기술을 발표하여 현재 ASML이 독점하고 있는 극자외선 리소그래피(EUV) 기술에 도전장을 던졌습니다. NIL은 비용이 저렴하고, 에너지 소비량이 적고, 공정이 간소하며, '스탬프' 방식으로 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 전사합니다. 20년의 개발 기간을 거쳐 레지스트 제어, 기포 제거, 정렬 정확도 등의 과제를 극복하고 첫 번째 상용 시스템이 제공되었습니다. 앞으로 특히 비용 효율성과 효율성을 중시하는 용도에서 메모리 및 로직 칩 제조 분야에서 NIL이 자리매김할 것으로 기대됩니다.