Além da Litografia: Aceleradores de Partículas Podem Revolucionar a EUV
2025-03-20
A fabricação dos menores e mais complexos objetos do mundo – chips semicondutores – desafia os limites da física. A litografia ultravioleta extrema (EUV), usando luz de comprimento de onda curto para gravar padrões em escala nanométrica em silício, está na vanguarda. A abordagem inovadora da ASML usa lasers para vaporizar gotas de estanho, gerando luz EUV de 13,5 nm. No entanto, os pesquisadores estão explorando aceleradores de partículas para gerar feixes EUV ainda mais poderosos, impulsionando elétrons próximos à velocidade da luz, potencialmente revolucionando a fabricação de chips.