Jenseits der Lithographie: Teilchenbeschleuniger könnten EUV revolutionieren
2025-03-20
Die Herstellung der kleinsten und komplexesten Objekte der Welt – Halbleiterchips – stößt an die Grenzen der Physik. Die extreme Ultraviolettlithographie (EUV), die kurzwelliges Licht verwendet, um Nanomuster auf Silizium zu ätzen, steht an vorderster Front. Der innovative Ansatz von ASML nutzt Laser, um Zinntropfen zu verdampfen und 13,5 nm EUV-Licht zu erzeugen. Forscher untersuchen jedoch Teilchenbeschleuniger, um noch leistungsstärkere EUV-Strahlen zu erzeugen, indem sie Elektronen auf nahezu Lichtgeschwindigkeit beschleunigen, was die Chipherstellung revolutionieren könnte.