キヤノンのナノインプリントリソグラフィがEUVの支配に挑戦

キヤノンは、14ナノメートルの精度を実現するナノインプリントリソグラフィ（NIL）というチップ製造技術を発表し、現在ASMLが独占している極紫外線リソグラフィ（EUV）技術に挑戦しています。NILは、コストが低く、消費電力が少なく、プロセスが簡素で、「スタンプ」方式でシリコンウェハーに回路パターンを転写します。20年の開発期間を経て、レジスト制御、気泡除去、アライメント精度などの課題を克服し、最初の商用システムが提供されました。今後、特にコスト効率と効率性を重視する用途において、メモリやロジックチップ製造においてNILが地位を築くことが期待されます。