Litografia por Nanoimpressão da Canon Desafia a Supremacia da EUV

A Canon lançou uma tecnologia de fabricação de chips chamada litografia por nanoimpressão (NIL), capaz de precisão de 14 nanômetros, desafiando a litografia ultravioleta extrema (EUV) atualmente monopolizada pela ASML. A NIL oferece custos mais baixos, menor consumo de energia e um processo mais simples, transferindo padrões de circuito para wafers de silício usando um método de 'carimbo'. Apesar de um período de desenvolvimento de 20 anos, a NIL superou desafios como controle de resistores, eliminação de bolhas e precisão de alinhamento, e o primeiro sistema comercial foi entregue. No futuro, a NIL está preparada para ganhar espaço na fabricação de chips de memória e lógica, especialmente em aplicações que exigem custo-benefício e eficiência.