Litografia Computacional Acelerada por GPU: De Dias para Horas
A fabricação moderna de semicondutores enfrenta desafios computacionais imensos, particularmente na litografia para chips submicrométricos profundos. As técnicas tradicionais de OPC são limitadas pela capacidade computacional, enquanto a ILT, embora mais flexível, exige recursos massivos, potencialmente utilizando milhares de núcleos de CPU por dias. Para resolver isso, a NVIDIA, a TSMC e a Synopsys colaboraram para migrar o código de litografia de CPUs para GPUs, obtendo acelerações significativas. Ao otimizar algoritmos e aproveitar o paralelismo da GPU, eles reduziram o tempo de computação da ILT de vários dias para menos de um dia, alcançando um aumento de velocidade superior a 15 vezes. Essa inovação promete avançar significativamente a indústria de semicondutores.