Litografía computacional acelerada por GPU: De días a horas
La fabricación moderna de semiconductores se enfrenta a inmensos desafíos computacionales, particularmente en la litografía para chips submicrométricos. Las técnicas tradicionales de OPC están limitadas por la potencia de cálculo, mientras que la ILT, aunque más flexible, exige recursos masivos, pudiendo utilizar miles de núcleos de CPU durante días. Para abordar esto, NVIDIA, TSMC y Synopsys colaboraron para migrar el código de litografía de las CPU a las GPU, logrando aceleraciones significativas. Al optimizar algoritmos y aprovechar el paralelismo de las GPU, redujeron el tiempo de computación de ILT de varios días a menos de un día, consiguiendo un aumento de velocidad superior a 15 veces. Este avance promete impulsar significativamente la industria de los semiconductores.