超越光刻：粒子加速器或将引领EUV光刻技术革命

芯片制造工艺的极限在于光刻技术，目前最先进的极紫外光刻（EUV）技术使用激光熔融锡滴产生13.5nm波长的光。荷兰ASML公司是该领域领导者，但其技术仍面临瓶颈。现在，研究人员希望利用粒子加速器，将电子加速到接近光速，以产生更强大的EUV光束，从而突破光刻技术的物理极限，进一步提升芯片制造能力。