Canons Nanoimprint-Lithographie fordert EUV-Dominanz heraus

Canon hat eine Chipfertigungstechnologie namens Nanoimprint-Lithographie (NIL) vorgestellt, die eine Präzision von 14 Nanometern erreicht und damit die von ASML monopolisierte extreme Ultraviolettlithographie (EUV) herausfordert. NIL bietet niedrigere Kosten, geringeren Energieverbrauch und einen einfacheren Prozess, indem Muster auf Siliziumwafer mittels eines „Stempelns“ übertragen werden. Trotz einer 20-jährigen Entwicklungsphase wurden Herausforderungen wie Resiststeuerung, Blasenbildung und Ausrichtungspräzision gemeistert, und das erste kommerzielle System wurde ausgeliefert. Zukünftig könnte NIL in der Fertigung von Speicher- und Logikchips Fuß fassen, insbesondere bei Anwendungen mit hohen Anforderungen an Kosten und Effizienz.